Российские инженеры разработали установку для плазмохимического осаждения (ПХО) на кремниевых пластинах диаметром 300 мм. Опытный образец создан в Научно-исследовательском институте точного машиностроения (НИИТМ), входящем в группу компаний «Элемент».
ПХО — один из ключевых процессов в производстве микросхем. До недавнего времени такие установки поставлялись исключительно из-за рубежа, однако теперь у России появилась возможность производить их самостоятельно. Это важный шаг в укреплении технологического суверенитета страны.
По словам начальника отдела перспективных разработок НИИТМ Георгия Ерицяна, новая установка может работать не только с 300-миллиметровыми пластинами, но и адаптироваться для обработки 200-миллиметровых. Это позволит предприятиям тестировать ее на уже существующих технологических процессах и постепенно переходить на работу с пластинами большего размера.
Разработчикам удалось в короткие сроки локализовать производство всех компонентов оборудования. При этом технологические параметры установки соответствуют мировым стандартам и не уступают зарубежным аналогам.